电子超纯水
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UPW-HiDB超纯水抛光除硼系统

应用对象:集成电路与硅片产业对硼要求极高的超纯水处理系统

关键技术:除硼树脂、抛光树脂、除硼阴床

技术优势:

1)硼选择树脂含有多羟基官能团,对于硼酸具有高选择性;

2)双层床的设计及后置的TOC-UV解决除硼树脂TOC溶出的问题;

3)产水B浓度 < 10 ppt,TOC < 2 ppb。