应用对象：半导体与面板产业显影废液
关键技术：光阻去除、短程硝化、厌氧氨氧化
技术优势：1）高效厌氧生化工艺对TMAH耐受浓度高（1%浓度）；
2）厌氧工艺处理TMAH容积负荷为好氧的3倍；
3）TOC及有机氮的转化率＞95%；
4）占地面积小，节省生化系统投资40%以上；运行成本低，降低运行成本30%以上。
应用对象：半导体与面板产业显影废液
关键技术：光阻去除、短程硝化、厌氧氨氧化
技术优势：1）高效厌氧生化工艺对TMAH耐受浓度高（1%浓度）；
2）厌氧工艺处理TMAH容积负荷为好氧的3倍；
3）TOC及有机氮的转化率＞95%；
4）占地面积小，节省生化系统投资40%以上；运行成本低，降低运行成本30%以上。