Reg-PMBR抛光树脂再生技术

时间： 2025-02-07

应用对象：半导体与面板产业废弃的抛光树脂

关键技术：双塔式分离再生工艺、可移动式厂内回收装置

技术优势：

1）可实现抛光树脂资源回收;

2）树脂分离效率高：阳中阴<0.1%，阴中阳<0.1%;

3）高度再生技术：再生率阳树脂>99.9%，阴树脂>92%

4）超纯水水质保证，电阻率≥18.15MΩ·cm，TOC≤30 ppb。

抛光树脂再生技术.png

下一篇：Oxi-HiDu小分子有机物强化去除技术